NI、半導体テストシステムPXI SMUのチャンネル密度を6倍に向上

New PXIe-4163 high density SMU provides six times more DC channel density than previous NI PXI SMUs.

日本ナショナルインスツルメンツ株式会社(本社:東京都港区、代表取締役:コラーナ マンディップ シング、以下日本NI)は2018年2月7日、高密度ソースメジャーユニット(SMU)「PXIe-4163」を発表しました。この製品は、RF、MEMS、ミックスドシグナル、アナログ半導体デバイスのテストなどに活用されている従来のNI PXI SMUと比べて、DCチャンネル密度が6倍以上向上しています。

 

半導体メーカーは、スループットやコストパフォーマンス、製造現場での設置面積といった問題に対処するため、半導体テストシステム(STS:Semiconductor Test System)をいち早く採用しました。新しいPXIe-4163 SMUは、STSの機能をさらに高めるものです。DCチャンネル密度の向上により、並列テスト可能なサイト数を向上できるようになります。STSと新しいSMUとの組み合わせを活用することで、同じ計測器を検証実験環境でも製造現場でも使用できるため、計測値の相関取りという課題を削減し、短期間での市場投入が可能となります。

 

新しいPXIe-4163 SMUは、STS構成でもスタンドアロンのPXIシステムでも使用できます。製品の主な機能は以下のとおりです。

 

  • 1つのPXI Expressスロットに最大24チャンネル
  • 各チャンネルが+/-24 Vに対応
  • 最大100 mA/チャンネルのソース/シンク
  • 100 pAの電流感度
  • 最大100 kS/秒のサンプリングレートおよびアップデートレート
  • オーバーシュートおよび振動を最小限に抑えるSourceAdapt
  • 対話式構成およびデバッグソフトウェア
  • 1つのPXIシャーシに最大408個の高精度SMUチャンネル(4Uラックスペース)
  • システムレベルの配線、キャリブレーション、ピンマッピング対応などのSTSによる完全サポート

 

STSは、2014年の発表以来、根本的に異なるアプローチを半導体製造テストに提供しており、よりスマートなテストシステムの構築を実現するNI PXIプラットフォームをベースにしています。PXIプラットフォームには、1 GHz帯域幅のベクトル信号トランシーバ、fAクラスのSMU、業界最高水準のテスト管理ソフトウェア TestStand、DCからミリ波まで600種類以上のPXI製品が含まれます。

 

NI グローバルセールス&マーケティング部門 エグゼクティブ・バイス・プレジデント Eric Starkloffのコメント
「5G、IoT、自動運転などの非常に画期的な技術の台頭により、半導体メーカーは、研究環境から製造現場にいたるまで、あらゆる環境において、より効率的に半導体テストを実施するアプローチの開発と適用を求められています。半導体テストはNIにとって戦略上の焦点となるものです。私たちは、最新のPXI SMUのように、ソフトウェアプラットフォームとPXIの機能を拡張することで、半導体メーカーが最重要課題に取り組めるように支援しています。」

 

STSの機能の詳細については、 www.ni.com/sts/ をご覧ください。

 

Semiconductor Test System

The STS offers a fundamentally different approach to semiconductor production test. The new PXIe-4163 SMU complements the capabilities of the STS and can be used in either STS configurations or stand-alone PXI systems.

 

To learn more about the STS, click here

 

画像に関するお問い合わせは、prjapan@ni.comまでご連絡ください。

NIについて

NI(ni.com)は、現在だけでなく将来をも見据えたエンジニアリングの課題解決をサポートする、高性能な自動テスト/計測システムを開発しています。NIのソフトウェア定義のプラットフォームは、モジュール式ハードウェアと拡大を続けるエコシステムから構成されており、このオープンなプラットフォームを採用することにより、優れたアイデアを具現化できます。

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